Material for Sputtering Targets


A tecnologia de sputtering targets de alto desempenho depende de uma grande gama de materiais, de variados tamanhos e formas. Dentre esses materiais figuram metais preciosos e não preciosas especiais, cerâmicas especiais e química fina inorgânica para PVD (physical vapor deposition). Dentre as formas se contemplam geometrias padrão para suportar todos os principais OEMs e equipamentos, contemplando, também, desenhos personalizados para processos especializados.


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